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    利達系統致力於先進半導體的潔淨設備研究

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    利達系統致力於先進半導體的潔淨設備研究,通過工 業技術研究院

    使用獨家奈米銀複合光觸媒技術搭配,使用獨家奈米銀 複合光觸,媒技術搭配使用獨家奈米銀,複合

    新闻动态

    奇昇致力於頂尖半導體科技的潔淨室設備研發與生產,為客戶提供最合理有效的潔淨空氣整體解決方案,使我們的客戶達到提升制程良率、降低能耗,節約成本的效果。產品和服務覆蓋多個微電子行業。


    奇昇微電子市場解決方案覆蓋十大領域:半導體行業、面板行業、封裝/測試行業、電晶體化學濾網、面板化學濾網、制程設備化學濾網、新風系統MAU化學濾網、新風系統MAU國中高效濾網、高效超高效篩檢程式更換以及制程用EFU。

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    丨AMC濃度控制


    隨著集成電路(IC)製造中功能尺寸的不斷縮小,AMC的控制要求也越來越嚴格。自1955年以來,SEMI(國際電晶體設備與資料產業協會)一直在研究AMC對微電子製造過程的影響。在SEMI標準F21-1102中將AMC其分為MA(分子酸類)、MB(分子堿基類)、MC(分子有機凝劑)和MD(植入參雜類)這四類標準,並嚴格規範了各類AMC的污染濃度分級,其污染濃度組織以摩爾體積表示(ppb或ppt)。

    在無塵室的內外都存在AMC污染源,在實際控制方案中需要瞭解AMC的來源和特性,進行最合理的方案設計。外部空氣(OA)中的AMC在進入潔淨室前會經過MAU進行預處理,在MAU中配備智慧水洗裝置(90%)和化學篩檢程式(90%)兩級過濾裝置,以MAC濃度50ppv的外氣為例,控制進入FAB的AMC濃度在符合規範的1ppb以下。

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    奇昇為客戶提供潔淨室污染監視、污染物實时分析、污染源實时控制、建立污染源資料庫等一系列AMC控制服務。相對於傳統污染源監測,奇昇使用的Online監測系統可線上快速分析AMC(分析週期MC為15min、MA/MB為60min),並實时上傳至資料庫。根據監測結果可針對性的對污染源進行處理,提升制程良率、降低生產成本。

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